Metodă de producere a oțelului siliconic de calitate superioară neorientată prin proces de turnare continuă și laminare în plăci subțiri

Cum să utilizați procesul de turnare și laminare continuă a plăcii subțiri pentru a produce oțel siliconic neorientat de înaltă calitate, astfel încât să dea joc deplin avantajelor procesului de turnare și laminare continuă a plăcii subțiri este o problemă tehnică care trebuie rezolvată urgent în stadiul tehnicii.

Oțelul siliconic neorientat din prezenta invenție are următoarele procente de masă în compoziția chimică:

Si: 2,5-3,5%, Al: 0.10-1,5%, Mn: 0.10-1,5%, [S+ O+C+N+Ti] Mai puțin sau egal cu 80ppm, elemente de pământuri rare (La și/sau Ce și/sau Nd): 0,001 ~0,01%, soldul este Fe și alte elemente de impurități.
Metoda de producere a oţelului siliconic neorientat în procesul de turnare continuă şi laminare a plăcilor subţiri din prezenta invenţie include următoarele etape: Etapa A: Topire; Pasul B: Turnare continuă; Pasul C: Încălzire; Pasul D: Laminare continuă la cald; Pasul E: Murarea; Pasul F: laminare la rece; Etapa G: recoacere de recristalizare.
Ca o îmbunătățire suplimentară a prezentei invenții, în procesul de topire din etapa A, topirea convertorului este efectuată mai întâi și apoi se efectuează tratamentul de rafinare RH. După tratament, procentul de masă al compoziției chimice a oțelului topit la punctul final este:
Si: 2,5-3,5%, Al: 0.10-1,5%, Mn: 0.10-1,5%, [S+ O+C+N+Ti] Mai puțin sau egal cu 80ppm, elemente de pământuri rare (La și/sau Ce și/sau Nd): 0.001 -0,01%, soldul este Fe și alte elemente de impurități;
Elementul de pământ rar este adăugat în decurs de 1 până la 2 minute după terminarea rafinării și alierei RH, iar elementul de pământ rar este adăugat după agitare, iar timpul de agitare este mai mare sau egal cu 3 minute.
„Ca o îmbunătățire suplimentară a prezentei invenții, în procesul de turnare continuă din etapa B, viteza de tragere este controlată să fie de 2,8-4,6 m/min, iar turnarea continuă obține o placă cu o grosime de 30-70 mm.
Ca o îmbunătățire suplimentară a prezentei invenții, în procesul de încălzire din etapa C, placa de turnare este trimisă la un cuptor tunel pentru încălzire, placa de turnare care intră în temperatura cuptorului este ﹥800 de grade, temperatura de încălzire este 950-1150 grad, iar timpul de înmuiere este mai mic de 30 de minute.
Ca o îmbunătățire suplimentară a prezentei invenții, în procesul de laminare în tandem la cald din etapa D, se efectuează {{{0}}laminarea în tandem la cald, temperatura de pornire a laminarii este controlată la 950-1100 grade, temperatura finală de rulare este controlată la 900-920 grade , iar temperatura de bobinare este controlată la 600-700 grade . , Controlați grosimea țintă a foii laminate la cald de la 0,8 la 1,0 mm.
„Ca o îmbunătățire suplimentară a prezentei invenții, în procesul de laminare la rece din etapa F, laminarea la rece este efectuată la o grosime de 0,5 mm.
Ca o îmbunătăţire suplimentară a prezentei invenţii, în procesul de recoacere de recristalizare din etapa G, temperatura de recoacere este controlată să fie de 1000 până la 1200 grade C, iar timpul de menţinere este controlat să fie de 1 până la 3 minute.
Ca o îmbunătățire suplimentară a prezentei invenții, în procesul de turnare continuă din etapa B, gradul de supraîncălzire al recipientului de turnare este controlat să fie mai mic sau egal cu 0 grade pentru a se asigura că raportul de cristal echiaxial este mai mare decât sau egal cu 80%; Rata de reducere a controlului procesului de laminare la rece Etapa F Mai mică sau egală cu 50%.
Ca o îmbunătățire suplimentară a prezentei invenții, procesul de laminare la rece etapa F adoptă o laminare la rece reversibilă cu un singur suport sau o laminare în tandem la rece; procesul de recoacere de recristalizare etapa G adoptă o atmosferă de hidrogen pur.

Efect benefic
În comparație cu stadiul tehnicii, soluția tehnică furnizată de prezenta invenție are următoarele efecte remarcabile:

(1) Procesul de producție continuu de turnare și laminare a plăcilor subțiri existente pentru oțel siliconic neorientat de calitate scăzută și medie este practic matur, dar pentru oțel siliciu neorientat de calitate înaltă, mai ales când conținutul de siliciu este mai mare de 2,5% , există defecte evidente ale produsului. Având în vedere problemele de mai sus, în metoda de producere a oțelului siliciu neorientat în procesul de turnare și laminare continuă a plăcilor subțiri din prezenta invenție, parametrii procesului de la etapa A la etapa G sunt potriviți între ei, iar înaltă calitate calificată. Oțelul siliconic neorientat de calitate este produs prin procesul de turnare și laminare continuă a plăcii subțiri, oferind astfel un joc complet avantajelor procesului de turnare și laminare continuă a plăcii subțiri.

(2) The method for producing non-oriented silicon steel in the thin slab continuous casting and rolling process of the present invention, in the thin slab continuous casting and rolling process, by reasonably setting the composition and process, it is produced without electromagnetic stirring and impermanence. The high-grade high-efficiency non-oriented silicon steel with silicon content>2,5% are inducție magnetică ridicată și pierderi scăzute de fier în produsul final. Rezolvă defectele ondulate care apar ușor în producția de oțel siliconic neorientat de înaltă calitate prin procesul de turnare și laminare continuă a plăcilor subțiri existente. Tehnologia sa principală Caracteristicile se reflectă în: oțelul topit [S+O+C+N+Ti] trebuie să fie mai mic sau egal cu 80 ppm, oțel topit ultrapur; adăugând elemente de pământuri rare, una este de a purifica profund oțelul topit, de a reduce incluziunile și de a îmbunătăți proprietățile magnetice, iar celălalt este de a folosi sulfuri de pământuri rare Ca punct de nucleare, rafinează cristalele columnare ale plăcii turnate și elimină ondularea; procesul de turnare adoptă supraîncălzire negativă, astfel încât raportul de cristal echiaxial este mai mare de 80%, iar ondularea este eliminată; rata de reducere a ultimei treceri a procesului de laminare continuă la cald este controlată să fie mai mare de 50%, iar temperatura scăzută Reducerea mare reduce structura de bandă a miezului foii laminate la cald, îmbunătățește structura laminată la cald și elimină ondularea; optimizează grosimea foii laminate la cald, controlează rata de reducere în procesul de laminare la rece Mai mică sau egală cu 50% și reduce textura (111) în rata de reducere medie. , Mărește (100) textura și îmbunătățește proprietățile magnetice.

Granulație Oțel electric neorientat